TRIENNALE MILANO ARCHIVI E COLLEZIONI

Displaced : Llonch+Vidalle architecture / edited by Oscar Riera Ojeda.- Hong Kong : Oscar Riera Ojeda Publishers, 2015.- 267 p. : ill. color ; 24 cm

Tipologia Volume
Data 2015

Tipologia

Bibliografica

Collocazione

EXPO A.M.22 1

Luogo di edizione

Hong Kong

Paese

CN

Link esterni

Nome del sito
OPAC SBN
Indirizzo
http://id.sbn.it/bid/LO11712802