Displaced : Llonch+Vidalle architecture / edited by Oscar Riera Ojeda.- Hong Kong : Oscar Riera Ojeda Publishers, 2015.- 267 p. : ill. color ; 24 cm
Tipologia Volume
Data 2015
Tipologia
- Bibliografica
Collocazione
- EXPO A.M.22 1
Luogo di edizione
- Hong Kong
Paese
- CN
Link esterni
- Nome del sito
- OPAC SBN
- Indirizzo
- http://id.sbn.it/bid/LO11712802
